机译:分解后和击穿后薄氧化硅膜中与结构有关的低频波动
ORDIST, Graduate School of Science & Engineering, Kansai University, Suita, Osaka 564-8680, Japan;
Si0_2 film; hard breakdown; degradation; current fluctuation; defect; deep level; random telegraph noise; resistive transition memory;
机译:硬击穿后薄氧化硅薄膜中的低频电流波动
机译:用于薄氧化硅结构中低频电流波动的低噪声自动测量系统
机译:金属氧化物-硅结构中SiO_2薄膜应力引起的漏电流中引起随机电报噪声波动的缺陷的状态转变
机译:硬击穿后薄氧化硅薄膜中的低频电流波动
机译:氧化锶铁/二氧化硅/硅和氧化锶铁/氧化铝薄膜系统的热稳定性:透射电子显微镜研究薄膜系统的界面结构和氧化锶铁/氧化铝的电导传感响应。
机译:富硅氧化硅薄膜中Er3 +发光的厚度依赖性优化
机译:硬击穿后薄氧化硅薄膜中的低频电流波动
机译:锆的阳极极化研究:(Ⅰ)高电位和低电位测量的形成场(Ⅱ)极薄阳极氧化膜的孔隙率(Ⅲ)极薄气化氧化膜的厚度(Ⅳ)a低电位电流电压调节器