枚葉式中電流イオン注入装置MC3-Ⅱ/WR

摘要

本装置は，次世代まで対応可能な注入品質と高生産性を併rnせ持つ，200mm/300mmウエハ対応の枝葉式中電流イオンrn注入装置MC3-Ⅱのエネルギー領域5～750keVを5～960keVrnまで拡げることにより，高エネルギー領域の一部までカバーrnするフレキシブルで高生産性の注入を可能とした枚葉式中電rn流イオン注入装置である。