机译:使用光学显微镜检查热退火等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积a-Si:H膜中的晶体成核和生长
National Center for Photovoltaics, National Renewable Energy Laboratory, 1617 Cole Blvd., Golden, Colorado 80401, USA;
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National Center for Photovoltaics, National Renewable Energy Laboratory, 1617 Cole Blvd., Golden, Colorado 80401, USA,Department of Mechanical Engineering, University of Colorado, Boulder, Colorado 80309, USA;
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机译:使用光学显微镜检查热退火等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积a-Si:H膜中的晶体成核和生长
机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
机译:氦稀释对等离子体增强化学气相沉积技术制备的a-Si:H薄膜的光电性能的影响
机译:通过陶瓷热线化学气相沉积合成的玻璃基板上拟晶硅薄膜的成核和生长
机译:通过铝的物理气相沉积和等离子体增强的三甲基硅烷化学气相沉积产生的薄膜的原位X射线光电子能谱分析。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:通过等离子体增强化学气相沉积和等离子体浸没离子注入和沉积获得的非晶态碳质薄膜的光学,机械和表面特性