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An accelerated test for cobalt migration in thin-film rigid disks

机译:薄膜硬磁盘中钴迁移的加速测试

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摘要

An accelerated direct extraction test was developed to evaluate the cobalt migration in thin film rigid disk. The results obtained using this test show good correlation to the results from the conventional chamber exposure test at 60/spl deg/C, 70/spl deg/C, and 80/spl deg/C with 80% RH for 96 hours.
机译:开发了加速直接萃取试验以评估薄膜硬盘中钴的迁移。使用该测试获得的结果与在60 / spl deg / C,70 / spl deg / C和80 / spl deg / C,80%RH持续96小时的常规腔室暴露测试的结果显示出良好的相关性。

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