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Applied tunes up transistors for DRAM makers

机译:Applied公司为DRAM制造商调整晶体管

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摘要

Applied Materials recently introduced a series of chemistry and equipment changes. The move indicates the degree to which physics, chemistry, and the semiconductor-equipment industry must push ahead increasingly reluctant transistor performance in silicon-gate MOSFETs in the peripheral circuitry, including the address decoders, sense amps, and multiplexers, of advanced DRAMs. Unlike logic processes, which have converted to high-k/metal-gate MOSFETs at advanced nodes, DRAM processes have stayed with the significantly simpler silicon-gate stack. The array transistors in the memory cells have undergone an intense evolution, now employing recessed channels to get adequate performance at a tiny size. The peripheral tran-
机译:应用材料公司最近推出了一系列化学和设备更改。此举表明,物理,化学和半导体设备行业必须在多大程度上推动先进DRAM的外围电路(包括地址解码器,感测放大器和多路复用器)中的硅栅MOSFET的磁阻晶体管性能不断提高。与逻辑处理已在高级节点处转换为高k /金属栅MOSFET的逻辑处理不同,DRAM处理始终停留在非常简单的硅栅堆叠中。存储单元中的阵列晶体管经历了激烈的发展,现在采用凹陷的沟道以很小的尺寸获得足够的性能。外围传输

著录项

  • 来源
    《Electrical Design News》 |2011年第15期|p.16|共1页
  • 作者

    Ron Wilson;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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