日本制造商公布存储器/晶体管技术

摘要

几家日本公司在6月12-16日于日本Kyoto举行的2007年VLSI技术与电路研讨会上，发布了多项重大技术进展：Toshiba公布一种在现有工艺基础上提高芯片密度的3-D单元阵列技求Fujitsu宣布推出一种新型的低功耗／高性能45nm平台，而Renesas Technology则首次展示一种用于微处理器和片上系统（SoC）的低成本高性能晶体管技术。