机译:非晶碳膜的激光退火
CNR-ISC, Montelibretti, via Solaria km 29.3, P.O. Box 10, 00016 Rome, Italy;
pulsed laser irradiation; graphitizing process; α-carbon films; carbon nano-structures; raman analysis; gi-xrd analysis;
机译:脉冲激光沉积对难熔氧化物衬底上生长的非晶碳膜的高温退火效应
机译:氢化非晶硅碳薄膜的激光退火和热退火
机译:Pecvd沉积氢化非晶硅碳合金薄膜的激光退火研究
机译:沉积和退火的富碳氢化非晶硅碳膜的高频电子顺磁共振研究
机译:低应力非晶碳膜的脉冲激光沉积工艺及其表征。
机译:热退火对非晶硅氮化硅膜嵌入浓度的致密Si纳米蛋白光致发光的影响
机译:掺杂(Ti,V,Zr,W)和退火对非晶碳薄膜sp 2 sup>碳结构的影响
机译:非晶碳薄膜的固态(sup 13)C mas NmR研究:退火过程中的结构变化