机译:氢化非晶硅碳薄膜的激光退火和热退火
Department of Physics, Utkal University, Vani Vihar, Bhubaneswar-751004, India;
silicon carbon alloys; laser annealing; thermal annealing; crystallization;
机译:氢化非晶态富硅碳化硅薄膜热退火后硅量子点的结晶机理
机译:结晶的监测以及沉积速率,氢含量和退火工艺对热丝化学气相沉积氢化非晶硅(a-si:h)薄膜结晶的影响
机译:氢化非晶硅碳膜的激光处理结晶
机译:沉积和退火的富碳氢化非晶硅碳膜的高频电子顺磁共振研究
机译:PECVD氢化非晶硅膜和HWCVD氢化非晶硅膜的质子NMR研究。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:用快速热退火法研究反应性蒸发的无定形氢化硅和非晶氢化锗及非晶态锗的再结晶。
机译:无定形氢化碳(a-C:H)薄膜的快速热退火