机译:通过反应外延在Si(111)衬底上生长的尺寸和形状受控的GaN纳米晶体
Natl Tsing Hua Univ, Dept Phys, Hsinchu 300, Taiwan;
SCANNING-TUNNELING-MICROSCOPY; QUANTUM DOTS; SURFACE; EQUILIBRIUM;
机译:通过分子束外延在SiC / Si(111)杂化衬底上生长的GaN纳米丝的生长和光学性质
机译:Si(111)基材上等等离子体辅助分子束外延生长的GaN层的光电性能和SiC / Si(111)外延层
机译:超薄AlN / GaN超晶格中间层在等离子体辅助分子束外延生长在Si(110)和Si(111)衬底上生长的GaN膜的应变工程中的作用
机译:GaN缓冲层厚度对等离子辅助分子束外延技术在Si(111)衬底上生长的AlGaN / GaN基高电子迁移率晶体管结构的结构和光学性能的影响
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:通过分子束外延在Si(111)衬底上生长GaN纳米壁网络
机译:通过反应外延在Si(111)衬底上生长的尺寸和形状受控的GaN纳米晶体