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机译:超薄AlN / GaN超晶格中间层在等离子体辅助分子束外延生长在Si(110)和Si(111)衬底上生长的GaN膜的应变工程中的作用
Advanced Power Electronics Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Umezono 1-1-1, Central 2, Tsukuba-shi, Ibaraki 305-8568, Japan|c|;
机译:超薄AIN / GaN超晶格中间层在等离子体辅助分子束外延生长在Si(110)和Si(111)衬底上生长的GaN薄膜的应变工程中的作用
机译:使用超薄AlN / GaN超晶格中间层通过MOCVD在4英寸Si(110)衬底上生长的高质量GaN膜和AlGaN / GaN HEMT
机译:N面GaN / AlN / GaN / InAlN和GaN / AlN / AlGaN / GaN / InAlN高电子迁移率晶体管结构,通过等离子体辅助分子束外延在邻近衬底上生长
机译:压力缓解Aln夹层在等离子体辅助分子束外延生长的甘蓝型中间层的影响
机译:使用气体源和RF等离子体辅助金属 - 有机分子束外延对GaN薄膜生长的结构,形态和动力学
机译:Si在GaN / AlN / Si(111)等离子体辅助分子束外延中的作用:极性和反型
机译:用等离子体辅助分子束外延法在si(111)衬底上生长GaN p-n结的表征