机译:dium浓度对氮化铝氮化铝薄膜发电品质因数的影响
Measurement Solution Research Center, National Institute of Advanced Industrials Science and Technology,Tosu, Saga 841-0052, Japan;
Murata Manufacturing Co., Ltd., Nagaokakyo, Kyoto 617-8555, Japan;
Murata Manufacturing Co., Ltd., Nagaokakyo, Kyoto 617-8555, Japan;
Measurement Solution Research Center, National Institute of Advanced Industrials Science and Technology,Tosu, Saga 841-0052, Japan;
机译:生长温度和scan浓度对氮化铝nitride合金薄膜压电响应的影响
机译:scan铝合金溅射靶制备of铝氮化物薄膜及实验设计
机译:双反应共溅射制备Scan氮化铝合金薄膜中的压电响应
机译:高scan含量的c轴织构氮化铝aluminum铝薄膜的增强压电性能:固有应力和溅射参数的影响
机译:氮化铝,氮化Scan和氮化铝-氮化三元合金:结构,光学和电学性质。
机译:氘离子束辐照下氘在氘化thin薄膜中的扩散和分布
机译:用钪合金溅射靶和实验设计制备氮化铝薄膜薄膜