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脉冲激光沉积制备MgO非晶薄膜介电性质的研究

         

摘要

利用脉冲激光沉积技术在高电导P-Si和绝缘体SiO2上沉积了MgO非晶薄膜,并对SiO2上的MgO薄膜进行了透过率及XRD表征.构造了金属-氧化物-半导体(MOS)场效应晶体管结构P-Si/MgO/Ag,测量了其C-F曲线,计算得到K-ω曲线,通过拟合计算得到MgO的介电常数和等效厚度,与SiO2的等效厚度进行对比发现,非晶MgO作为高K值绝缘栅介质材料优于SiO2.

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