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韩亚萍; 封敬艳; 王金鑫;
东北林业大学理学院,哈尔滨150040;
哈尔滨工业大学凝聚态科学与技术研究所,哈尔滨150001;
非晶MgO薄膜; MOS; 介电性质; 等效厚度;
机译:脉冲激光沉积制备的Ga-Ge-Te非晶薄膜
机译:脉冲激光沉积制备硫化镓镧硫化非晶薄膜
机译:脉冲激光沉积制备的As_(48)S_52非晶薄膜的不可逆光诱导变化
机译:脉冲激光沉积在MgO衬底上制备铁电纳维_(3)薄膜
机译:工业副产物制备高性能CaO-MgO-Al2O3-SiO2体系微晶玻璃的研究。
机译:Ge-As-Te体系脉冲激光沉积非晶薄膜的光稳定性测试
机译:脉冲激光沉积Bi2O3-MgO-ZnO-Nb2O5膜的制备与表征
机译:srTiO(sub 3)(100)上的外延pb(Zr(sub x)Ti(sub 1(minus)x))O(sub 3)/ srRuO(sub 3)(x = 0,0.35,0.65)多层薄膜通过mOCVD和RF溅射制备mgO(100)和mgO(100)
机译:包覆有TiO2的MgO纳米棒的制备方法及由其制备的具有核-壳结构的TiO2MgO纳米棒
机译:具有TiO 2的MGO纳米涂层的制备方法和具有相同结构的TIO2-MGO纳米球壳结构
机译:多晶MgO烧结体,制备方法及其MgO溅射靶
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