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刘志杰; 张卫; 张剑云; 万永中; 王季陶;
复旦大学电子工程系CVD研究室;
金刚石; 相图; 化学气相淀积; 薄膜; 含氮体系;
机译:在低衬底温度下{100}取向CVD金刚石膜生长的原子尺度KMC模拟-第二部分C-H系统和含Cl体系中CVD金刚石膜生长的模拟
机译:线性天线微波CVD工艺沉积在含氮/氧混合气体中的金刚石膜的结构和电学表征
机译:含少量氮的多晶CVD金刚石薄膜的发光研究
机译:热丝素岩CVD合成含氮金刚石
机译:类金刚石碳和含氮类金刚石碳膜的性能
机译:多层氮掺杂外延生长法制备的CVD单晶金刚石的界面和力学性能
机译:ECR等离子体CVD法低压低温合成大面积金刚石薄膜的研究
机译:含氮,氩,氮和氩离子束合成含硅类金刚石碳(si-DLC)涂层的磨损和摩擦学性能
机译:高温高压条件下激光烧蚀结合高压放电等离子体CVD形成金刚石薄膜的方法及金刚石块的制造方法
机译:低压CVD法的金刚石覆膜方法
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