磁控反应溅射TaN薄膜的结构和性能

摘要

采用磁控溅射仪制备了ＴａＮ薄膜，研究了不同氮分压条件下ＴａＮ薄膜的成份、结构和力学性能。结果表明，氮分压在０．２＊１０＾－１Ｐａ时镀层由两相混合物正方的β－Ｔａ和面心立方结构的δ－ＴａＮ组成。而氮分压在０．４＊１０＾－１－０．８＊１０＾－１Ｐａ时，得到单相六方ＴａＮ结构。