溅射功率对Co2MnSi合金薄膜结构及磁性能的影响

摘要

采用磁控溅射法制备了非晶Co2MnSi(CMS)薄膜,分别利用振动样品磁强计(VSM)和X射线粉末衍射仪(XRD)对薄膜的磁及结构特性进行了表征,研究了溅射功率对CMS薄膜面内磁特性及结构特性的影响.热磁特性分析发现,当加热温度达到400℃以后,薄膜逐渐由弱磁性转变为强磁性;随着加热温度的升高,较高功率下制备的薄膜饱和磁化强度上升较快,说明对于溅射功率越大的薄膜,强铁磁相的形成越迅速.结构特性分析表明,薄膜经400℃退火后发生了明显晶化,并且晶粒尺寸与薄膜的溅射功率相关.