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非晶薄膜

非晶薄膜的相关文献在1989年到2023年内共计146篇,主要集中在物理学、无线电电子学、电信技术、金属学与金属工艺 等领域,其中期刊论文73篇、会议论文11篇、专利文献320164篇;相关期刊52种,包括材料工程、功能材料、上海钢研等; 相关会议10种,包括2009年第十五次全国电化学学术会议、2006中国超硬材料发展论坛、第十届全国青年材料科学技术研讨会等;非晶薄膜的相关文献由352位作者贡献,包括李晓娜、董闯、谭辉等。

非晶薄膜—发文量

期刊论文>

论文:73 占比:0.02%

会议论文>

论文:11 占比:0.00%

专利文献>

论文:320164 占比:99.97%

总计:320248篇

非晶薄膜—发文趋势图

非晶薄膜

-研究学者

  • 李晓娜
  • 董闯
  • 谭辉
  • 郑月红
  • 徐炜新
  • 王飞
  • 程新利
  • 陶明德
  • 黄平
  • 张万里
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利文献

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    • 摘要: 通常计算认为C 3N 4可能具有5种结构,即α相,β相,立方相、准立方相以及类石墨相。除了类石墨相外,其他4种结构物质的硬度都可以与金刚石相比拟。在理论的预言下,人们采用各种手段试图在实验室合成出这种新的低密度高硬度的非极性共价键化合物,常用的制备方法有震荡波压缩、高压热解、离子注入、反应溅射、等离子体化学气相沉积、电化学沉积、离子束沉积、低能离子辐射、脉冲电弧放电和脉冲激光诱导等,但这种超硬材料的合成结果并不理想,主要表现在沉积物多为非晶CN薄膜,少数实验得到纳米级尺寸的C 3N 4晶粒镶嵌于非晶薄膜中,很少得到大颗粒的晶体。
    • 周瑶; 何鹏; 幸代鹏; 曾慧中; 张万里
    • 摘要: 利用脉冲激光沉积技术在SrTiO3表面导电层上方制备非晶HfO2栅介质薄膜,通过磁控溅射技术在非晶HfO2栅介质薄膜上方制备直径为100μm的圆形Pt电极,研究了变温条件下Pt/HfO2/SrTiO3的漏电流I-V特性,分析了非晶HfO2栅介质层的漏电机制,如空间电荷限制电流机制、Fowler-Nordheim导电机制、Pool-Frenkel发射机制、 肖特基发射机制.研究结果表明在低压段(0.5 V)为Pool-Frenkel发射机制.
    • 董硕; 苏少坚; 庄凤江; 周丽春; 金福江; 王可
    • 摘要: 采用磁控溅射法制备了非晶Co2MnSi(CMS)薄膜,分别利用振动样品磁强计(VSM)和X射线粉末衍射仪(XRD)对薄膜的磁及结构特性进行了表征,研究了溅射功率对CMS薄膜面内磁特性及结构特性的影响.热磁特性分析发现,当加热温度达到400°C以后,薄膜逐渐由弱磁性转变为强磁性;随着加热温度的升高,较高功率下制备的薄膜饱和磁化强度上升较快,说明对于溅射功率越大的薄膜,强铁磁相的形成越迅速.结构特性分析表明,薄膜经400°C退火后发生了明显晶化,并且晶粒尺寸与薄膜的溅射功率相关.
    • 罗胜; 杨亮; 郭古青; 戈涛
    • 摘要: Background:Zr-based alloys have been widely used as nuclear materials. However, enhancement of the resistance of particle radiation, the mechanical properties, and the corrosion resistance in alloys are still required. Purpose: The aim is to develop a new Zr-based nuclear material of excellent mechanical properties and corrosion resistance.Methods:DC magnetron sputtering method was applied to preparing ZrCuNb ternary amorphous films precipitated upon the pure zirconium substrate. The structure of ZrCuNb films was characterized using scanning electron microscopy, energy dispersive spectroscopy, X-ray diffraction, and high-resolution transmission electron microscope. Testing on mechanical properties such as tensile experiment was performed for both the ZrCuNb films/Zr substrate (the composite material) and the corresponding Zr metal plate. Corrosion resistance was studied using potentiodynamic polarization measurements.Results: It is found that full amorphous structure in films could be obtained microalloying Nb in ZrCu alloy, such as Zr53Cu38Nb9. In comparison with the Zr metal plate, the Zr substrate coated with Zr53Cu38Nb9 film does not have higher hardness or Young's modulus, however, the composite material possesses relatively high tensile strength and in particular obviously larger plastic-strain range. The enhancement is caused by the difference in initiation mechanism of cracks between the amorphous film and Zr substrate that they propagate along different orientations. Cracks in the substrate and film interfere with each other, leading to a delayed catastrophic rupture. In addition, the composite material has a stronger corrosion resistance.Conclusion: Zr metal plate coated with ZrCuNb amorphous film is a novel composite material with excellent mechanical properties and good corrosion resistance, which has a potential application in the nuclear engineering.%采用Zr65Cu35和Nb双靶直流共溅射方法,通过调节Nb靶的溅射功率,制备了不同Nb含量的ZrCuNb非晶薄膜.分别使用能谱仪、X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜观察ZrCuNb非晶薄膜的成分与结构,最终选择具有优异非晶形成能力的 Zr53Cu38Nb9成分溅射到纯 Zr 基片上,以制备锆基非晶复合材料.研究测试Zr53Cu38Nb9非晶复合材料的力学性能与耐腐蚀性能.结果表明:与纯Zr基片相比,复合材料在弹性阶段力学性能无明显差异;而在塑性变形阶段,由于非晶薄膜与纯Zr基片的变形与断裂机制不同,该复合材料具有更好的拉伸塑性,其表现为非晶膜厚为280 nm、640 nm和960 nm的复合材料的最大拉伸塑性形变较纯Zr基片分别提高了2.72%、5.22%、4.27%;在耐腐蚀性能方面,非晶膜厚为640 nm的复合材料与纯Zr基片相比,具有较小的自腐蚀电流密度icor、较正的腐蚀电位Ecor 以及较大的容抗弧半径,表现出更优异的耐腐蚀能力.因此,该新型Zr基复合材料在核材料领域具有潜在的应用.
    • 崔妍; 黄平; 王飞
    • 摘要: 为了研究非晶态金属内部结构与其力学性能的关系,本文采用磁控溅射法制备了2种不同原子组成的CuZr非晶薄膜(Cu55Zr45和Cu65Zr35),并对其进行退火。采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和透射电子显微镜对退火前后非晶薄膜的结构进行表征,采用纳米压痕仪对非晶薄膜的力学性能进行测试,研究了非晶薄膜中自由体积含量和原子组成对其硬度、应变速率敏感性指数和剪切带变形形貌的影响。结果表明:在低于玻璃化温度Tg(约700K)时,退火会导致非晶薄膜的短程有序性增加,不同原子构成的非晶自由体积含量也明显不同,这2种不同的结构变化对非晶薄膜的力学性能具有不同的影响;非晶的应变速率敏感性取决于自由体积含量的多少,非晶在压痕变形过程中产生的剪切带数量则由短程有序的原子结构和自由体积共同决定;此外,在压痕下方会伴随有非晶晶化现象的发生。
    • 崔妍; 黄平; 王飞
    • 摘要: 为了研究非晶态金属内部结构与其力学性能的关系,本文采用磁控溅射法制备了2种不同原子组成的CuZr非晶薄膜(Cu55Zr45和Cu65Zr35),并对其进行退火.采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和透射电子显微镜对退火前后非晶薄膜的结构进行表征,采用纳米压痕仪对非晶薄膜的力学性能进行测试,研究了非晶薄膜中自由体积含量和原子组成对其硬度、应变速率敏感性指数和剪切带变形形貌的影响.结果表明:在低于玻璃化温度Tg(约700 K)时,退火会导致非晶薄膜的短程有序性增加,不同原子构成的非晶自由体积含量也明显不同,这2种不同的结构变化对非晶薄膜的力学性能具有不同的影响;非晶的应变速率敏感性取决于自由体积含量的多少,非晶在压痕变形过程中产生的剪切带数量则由短程有序的原子结构和自由体积共同决定;此外,在压痕下方会伴随有非晶晶化现象的发生.
    • 马冰洋; 张安明; 尚海龙; 孙士阳; 李戈扬
    • 摘要: In order to reveal the reason why mechanical properties of alloy films increase continuously after amorphizing, a series of Al-Zr alloy films with different Zr contents are prepared by magnetron co-sputtering of Al and Zr targets. The microstructure and mechanical properties of the films are characterized through a number of techniques, including X-ray energy dispersive spectroscopy, X-ray diffraction, transmission electron microscopy, and nanoindentation. Results show that the films with low Zr content form highly supersaturated solid solutions due to high dispersibility of vapor particles and non-equilibrium growth of the film in co-sputtering process. The film grains are refined to nanoscale particles due to dramatic lattice distortion and the film hardness increases rapidly. As Zr content increases, the film hardness increases continuously because of the increase of Al-Zr chemical bonds after amorphizing, and reaches a high value of 9.8 GPa at 33.3 at.%Zr. The research results reveal the effect of the Al-Zr chemical bonds on mechanical properties in amorphous films.%为研究合金薄膜非晶化后力学性能持续提高的原因,通过双靶磁控共溅射方法制备了一系列不同Zr含量的Al-Zr合金薄膜,采用EDS, XRD, TEM和纳米力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能.结果表明:在溅射粒子高分散性和薄膜生长非平衡性的共同作用下,较低Zr含量的薄膜形成超过饱和固溶体,剧烈的晶格畸变使薄膜的晶粒纳米化,其硬度相应迅速提高.随Zr含量的进一步增加薄膜形成非晶结构,非晶薄膜的硬度因Al-Zr键数量的增加持续提高,并在含33.3 at.%Zr达到9.8 GPa后增幅减缓.研究结果揭示了非晶薄膜中Al-Zr键对薄膜力学性能的显著作用.
    • 梁朝旭; 李帅帅; 王雪霞; 李延辉; 宋淑梅; 杨田林
    • 摘要: 采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了IGZO薄膜,研究了IGZO薄膜的性质和制备工艺条件。重点研究了射频功率对IGZO薄膜的结构特性、光电特性的影响以及厚度对薄膜电阻率的影响。制备的IGZO薄膜最高品质因子为1.94×10-3Ω-1,对应的薄膜电阻率和透过率分别为2.6×10-3Ω·cm和87.2%。
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