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龙涛; 朱德贵; 王良辉;
西南交通大学材料科学与工程学院,四川,成都,610031;
陶瓷靶材; ZAO透明导电薄膜; 热等静压; 直流磁控溅射;
机译:ZAO粉,溅射靶材及相关膜的制备与性能
机译:还原烧结法制备的高导电性掺铝氧化锌陶瓷靶及其对直流磁控溅射沉积薄膜性能的影响
机译:陶瓷和金属旋转靶材通过脉冲直流磁控溅射在低温下沉积的高导电性和透明ITO膜
机译:溶胶-凝胶法制备氧化镁,纳米晶镁和氟化钡陶瓷薄膜,以及溶胶-凝胶法制备的氟化物取代的滑石的晶体化学性质和热稳定性。
机译:使用碳纳米管/聚四氟乙烯复合聚合物靶材通过中频溅射制备的氟碳薄膜
机译:衬底温度对直流磁控反应溅射制备ZAO薄膜的影响
机译:无需后烧制直接制备图案化功能陶瓷薄膜的软溶液加工。
机译:NiSi靶材,靶材,NiSi靶材的制造方法,NiSi薄膜,其制备方法和薄膜元件
机译:通过将一个或多个基于圆柱陶瓷的溅射靶材粘接到背板上来配置基于圆柱陶瓷的溅射靶材和基于圆柱陶瓷的溅射靶材
机译:高纯度钴铁合金溅射靶材,使用相同溅射靶材沉积的磁性薄膜和制备相同高纯度钴铁合金溅射靶材的方法
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