首页> 中文期刊> 《半导体光电》 >LC-4型600keV高能离子注入机投入使用

LC-4型600keV高能离子注入机投入使用

         

摘要

<正> 由长沙半导体工艺设备研究所研制的LC-4型600keV高能离子注入机,于今年八月在重庆光电技术研究所安装调试。这台机器设计合理,性能稳定,使用效率高,适用范围广,操作维修方便。目前机器工作正常,已为科研和生产服务。LC-4型高能机结构上采用先分析后加速、离子源和磁分析器处于高电位靶室接地类型,头部用隔离变压器供电,用光缆实现高压舱与控制室之间所有电控信号的联通。用微光电视观察束斑,实现远台操作。机器现配有室温靶室,八个靶位,自动换靶。尚留有四个离子通

著录项

  • 来源
    《半导体光电》 |1986年第4期|77-77|共1页
  • 作者

  • 作者单位

    重庆光电技术研究所;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号