バッチ式超高エネルギーイオン注入装置UHE

摘要

本装置は，超高エネルギーでのイオン注人プロセスにも対rn応した，300mm/200mmウエハ用高エネルギーイオン注人rn装置（バッチ式）である。rnエンベデイツドタイプのデバイスでのトリプルウェル，rnまた最近多くの企業で製造されるようになったイメージセンrnサ（CCDおよびCMOS）の量産には必禎である。