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于斌斌; 袁军堂; 汪振华; 薛志松; 黄云林;
南京理工大学机械工程学院;
多层等离子体蚀刻技术; 刻蚀速率; 均匀性; 光阻;
机译:在氮化AZ91mg合金上耐腐蚀性,纳米机械性能和含有蛋白质植入和等离子体蚀刻的耐等离子体蚀刻的TA / TAN分层多层涂层的耐腐蚀性和生物相容性
机译:使用两阶段喷淋板式微波等离子体蚀刻机连续蚀刻多层膜
机译:使用两级淋浴板型微波等离子体蚀刻器连续蚀刻多层膜
机译:处理蚀刻等离子体过程中光发射光谱与X射线光电子能谱技术的比较研究
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:垂直和斜面结构的SiC蚀刻技术结合了用于各种微电子应用的不同混合气体等离子体
机译:使用空间分辨的软X射线频谱和多层目标技术研究激光产生的等离子体
机译:用于监测氯 - 氦等离子体中多晶硅的等离子体蚀刻期间的蚀刻均匀性的光学诊断仪器
机译:扁平型等离子诊断设备件型等离子诊断设备,配备平面等离子诊断设备静电卡盘嵌入平面等离子体诊断系统中。 本研究是一种材料创新计划(NRF)材料创新计划(1711120490 / 2020M34A3106004),由科学和技术信息和通信部门提供支持。委托为51%)韩国国家科技研究协会(NST)研发 同盟计划(1711062007 / CAP-17-02-NFRI-01)由Kriss支持。
机译:等离子体蚀刻装置的等离子体蚀刻装置,等离子体蚀刻方法及等离子体清洗方法
机译:等离子体purazumapatsushibe-Shaun技术无效,可防止对蚀刻的铝膜进行蚀刻处理后的腐蚀
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