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退火处理对W:Bi4Ge3O12和Bi12GeO20晶体发光性能的影响

         

摘要

W: Bi4Ge3012 and Bi12GeO20 crystals were prepared by Czochralski(Cz) method. Hie absorption, photo-luminescence (PL) and PL lifetime spectra were investigated. The results revealed the PL intensity of W: Bi4Ge3O12 was stronger than that of Bi12 GeO20, and annealing in N2 can increase the PL intensity of W: Bi4Ge3O12. Near infrared PL (at about 745 nm) was observed in Bi12GeO20, annealed in N2, and the lifetime was about 10μs. The mechanisms of luminescence in W: Bi4Ge3O12 and annealed Bi12GeO20, was discussed.%通过提拉法制备了W:Bi4 Ge3 O12和Bi12GeO20晶体,测试了晶体的吸收光谱、光致发光谱和发光衰减时间等.W:Bi4 Ge3 O12的可见光发光强度比纯Bi4 Ge3 O12有所增强,而且N2中退火处理对W:Bi4Ge3O12发光有进一步增强作用.Bi12GeO20在N2中退火处理后在745 nm附近有发光峰,其衰减时间为10μs左右.两种晶体退火处理后发光均增强,认为是低价Bi离子发光所致.

著录项

  • 来源
    《发光学报》 |2011年第8期|825-829|共5页
  • 作者单位

    上海大学材料科学与工程学院,上海200072;

    中国科学院上海硅酸盐研究所透明与光功能无机材料重点实验室,上海201800;

    中国科学院上海硅酸盐研究所透明与光功能无机材料重点实验室,上海201800;

    中国科学院上海硅酸盐研究所透明与光功能无机材料重点实验室,上海201800;

    中国科学院上海硅酸盐研究所透明与光功能无机材料重点实验室,上海201800;

    上海大学材料科学与工程学院,上海200072;

    中国科学院上海硅酸盐研究所透明与光功能无机材料重点实验室,上海201800;

    上海大学材料科学与工程学院,上海200072;

    中国科学院上海硅酸盐研究所透明与光功能无机材料重点实验室,上海201800;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 发光学;
  • 关键词

    W: Bi4 Ge3 O12; Bi12 GeO20; 光致发光; 退火;

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