低阻高透过率ITO薄膜的制备与性能

王刚; 刘宏宇; 赵超; 杨柏梁; 黄锡珉

首页> 中文期刊> 《液晶与显示》 >低阻高透过率ITO薄膜的制备与性能

低阻高透过率ITO薄膜的制备与性能

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

研究了直流磁控溅射法制备的ITO薄膜的光电特性与溅射工艺参数的关系以及退火处理对ITO薄膜光电特性的影响.在低衬底温度、低溅射功率下获得了优质的 ITO 薄膜,可见光透过率高于85%,在厚度为100nm时其方块电阻在150～200Ω/□之间, 并且ITO薄膜的制备工艺完全与AMLCD中TFT器件的制作工艺兼容.

著录项

来源
《液晶与显示》 |1999年第1期|23-28|共6页
作者
王刚; 刘宏宇; 赵超; 杨柏梁; 黄锡珉;
展开▼
作者单位

中国科学院长春物理研究所,长春,130021;

北方液晶工程研究开发中心,长春,130021;

中国科学院长春物理研究所,长春,130021;

北方液晶工程研究开发中心,长春,130021;

吉林大学电子工程系,长春,130021;

中国科学院长春物理研究所,长春,130021;

北方液晶工程研究开发中心,长春,130021;

中国科学院长春物理研究所,长春,130021;

北方液晶工程研究开发中心,长春,130021;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类电子束器件、X射线管、阴极射线管;
关键词
直流磁控溅射; 衬底温度; 溅射功率; 方块电阻; 透过率; 真空退火;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 高透明低发射率ITO薄膜的制备及其光电性能研究 [J] . 李晓晖 ,宋凯强 ,丛大龙 . 表面技术 . 2020,第7期
2. 溅射压强对低阻高透过率掺钛氧化锌透明导电薄膜的影响 [J] . 刘汉法 ,袁玉珍 ,张化福 . 人工晶体学报 . 2010,第1期
3. 倾斜磁控溅射制备低阻高透ITO薄膜及其光电特性 [J] . 赵海娇 ,王丛 ,石晓光 . 功能材料与器件学报 . 2010,第6期
4. 低电阻率高透过率AZO薄膜的探讨与制备 [J] . 邵世强 ,李晓东 . 玻璃与搪瓷 . 2014,第005期
5. 磁控溅射制备参数对超薄ITO薄膜透过率影响的研究 [J] . 李广圣 ,顾葆华 ,阳志林 . 名城绘 . 2017,第012期
6. 利用直流控射方法制备具有高迁移率、高红外透过的ZnO:H薄膜 [C] . 梁俊辉 ,张晓丹 ,黄茜 . 第13届中国光伏大会 . 2013
7. 近红外区高透过率ITO/AZO薄膜的制备和性能研究 [A] . 赵继凤 . 2017

低阻高透过率ITO薄膜的制备与性能

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅