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双重印迹法制备汞离子印迹聚合物及其性能研究

         

摘要

采用双重印迹法,以N-3-(三甲氧基硅基)丙基乙二胺为功能单体,四乙氧基硅烷为交联剂,表面活性剂(十六烷基三甲基溴化铵)和Hg2+为模板,合成出Hg2+印迹聚合物.聚合物中的表面活性剂和Hg2+分别由乙醇萃取和HCl洗涤除去,利用平衡吸附法研究了聚合物的吸附性能和选择识别能力,且探讨了实验条件对印迹聚合物吸附性能的影响.结果表明,在竞争离子Cu2+(或Cd2+) 存在下,印迹聚合物具有较高的吸附能力和选择识别能力,最大相对选择系数k′>200,且可以循环使用.

著录项

  • 来源
    《分析化学》 |2009年第3期|449-453|共5页
  • 作者单位

    安庆师范学院化学化工学院,安徽省光电磁功能配合物和纳米配合物重点实验室,安庆,246011;

    安庆师范学院化学化工学院,安徽省光电磁功能配合物和纳米配合物重点实验室,安庆,246011;

    安庆师范学院化学化工学院,安徽省光电磁功能配合物和纳米配合物重点实验室,安庆,246011;

    安庆师范学院化学化工学院,安徽省光电磁功能配合物和纳米配合物重点实验室,安庆,246011;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 化学;
  • 关键词

    分子印迹; 测汞仪; 吸附; 汞离子;

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