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低温分子束外延InGaAs非晶薄膜的微观结构和光学性质

         

摘要

采用分子束外延技术制备了单层InGaAs非晶薄膜,V/Ⅲ束流比分别为40:1和60:1.测试了样品各元素的摩尔百分比及X射线衍射特征,并利用场发射扫描电镜观察了样品的表面形貌.由X射线衍射数据计算了径向分布函数和双体相关函数,并分析了样品中距中心原子最近邻原子的平均距离、最近邻原子的配位数和短程有序畴.同时,由透射谱计算了材料的近红外吸收系数,计算出两片InGaAs非晶薄膜样品的光学带隙分别为0.886 eV和0.822 eV.

著录项

  • 来源
    《兵工学报》 |2008年第12期|1450-1453|共4页
  • 作者单位

    长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,吉林长春130022;

    吉林师范大学信息技术学院,吉林四平136000;

    长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,吉林长春130022;

    吉林师范大学信息技术学院,吉林四平136000;

    长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,吉林长春130022;

    长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,吉林长春130022;

    长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,吉林长春130022;

    长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,吉林长春130022;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜的生长、结构和外延;
  • 关键词

    半导体技术; InGaAs非晶薄膜; 径向分布函数; 吸收系数; 光学带隙;

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