文摘
英文文摘
声明
第一章绪论
1.1研究背景
1.2热电/热电子制冷
1.3热电/热电子制冷技术的应用
1.3.1传统热电制冷器的缺陷
1.4热电/热电子制冷技术的进展及研究现状
1.4.1超晶格
1.4.2颗粒和点结构
1.4.3纳米线和量子阱
1.4.4其它微结构的改进
1.5有限元法
1.5.1 ANSYS程序
1.5.2温度场模拟的必要性
1.6本论文的主要工作
第二章晶体热传导
2.1晶体
2.1.1晶体结合分类
2.2晶格振动与晶体的热学性质
2.2.1一维晶格振动
2.2.2一维双原子晶格
2.2.3三维晶格振动
2.3简正坐标与声子
2.4晶格热传导
2.4.1气体系统的热导率
2.4.2绝缘晶体的热传导与非谐效应
2.4.3声子-声子碰撞
2.4.4杂质和边界散射
2.5电导与热导
2.5.1金属的电导与热导
2.5.2 半导体的热导与电导
2.5.3起晶格
2.5.4超晶格的声子输运
2.6热导率
2.7电导率
2.8本章小结
第三章热电/热电子制冷的基本原理及微观机制
3.1热电制冷
3.1.1塞贝克(Seebeck)效应
3.1.2帕帖尔(Pellier)效应
3.1.3汤姆生(Thomson)效应
3.1.4塞贝克效应和帕帖尔效应之间的关系
3.1.5热电制冷原理
3.2热电子发射制冷
3.3传统提高ZT值方法
3.4热电现象和热电子发射制冷物理机制分析
3.5势垒的主要参数对制冷效果的影响
3.5.1基于能带理论的热电子制冷表达式
3.5.2势垒厚度
3.5.3晶格周期
3.5.4高势垒器件
3.5.5制冷效率
3.6 Seebeck系数
3.7本章小结
第四章InGaAs/InGaAsP超晶格微制冷器
4.1微制冷器结构
4.2 InGaAsP/InGaAs超晶格制作流程
4.3 InGaAsP/InGaAs超晶格微制冷器的制造工艺流程
4.4封装
4.5品质因数的影响因素
4.5.1分析模型
4.5.2超晶格周期
4.5.3制冷器面积与电流密度
4.5.4环境温度
4.5.5封装
4.5.6基底热阻
4.6制冷器制冷分析
4.6.1热阻和电阻
4.6.2制冷分析
4.7本章小结
第五章InGaAs/InGaAsP超晶格微制冷器的制冷分析
5.1热传导有限元分析概述
5.2二维模型温度场分析
5.2.1单元选择
5.2.2 几何模型
5.2.3主要参数
5.2.4边界条件
5.2.5分析流程
5.3模拟结果
5.3.1不考虑自身电阻和接触电阻生热
5.3.2考虑自身电阻和接触电阻生热
5.3.3多个制冷器垂直叠加时的温度场
5.4三维温度场分析
5.5本章小结
第六章INGaAs/InGaAsP超晶格微制冷器优化分析
6.1非线性优化方法
6.2迭代过程的终止准则
6.2.1点距准则
6.2.2函数值下降准则
6.2.3梯度准则
6.3 InGaAs/InGaAsP超晶格微制冷器共轭梯度法优化数学模型
6.3.1面积优化流程
6.4优化分析
6.4.1 ANSYS优化分析过程
6.4.2超晶格微制冷器优化设计
6.4.3参数化模型
6.4.4设计序列结果
6.5优化结果
6.6本章小结
第七章总结和展望
7.1总结
7.2展望
7.2.1材料科学的进步
7.2.2制冷器的集成应用
7.2.3真空热电子制冷器
7.2.4热电转换
参考文献
作者简介及论文目录
致 谢