National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST),AIST-Central 2,1-1-1,Umezono,Tsukuba,Ibaraki 305-8568,Japan;
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机译:在KEK-PF慢速正电子设施中使用脉冲低能正电子束产生正负离子
机译:基于慢正电子束的正电子an灭介孔二氧化硅薄膜的研究:制备条件对孔径和开孔率的影响
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机译:静电正电子束及其在正电子的第一激发态的实验研究中的用途。
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