EIT4, Bundeswehr University, 85577 Neubiberg, Germany;
FRL, Semiconductor Physics Institute, 01108 Vilnius, Lithuania;
CEDIC, Dresden University of Technology, 01062 Dresden, Germany;
ECE Dept., University of California, San Diego, USA;
Atmel Germany GmbH, Th;
SiGe HBTs; impact-ionization; noise; microscopic modeling;
机译:SiGe异质结双极晶体管双极互补金属氧化物半导体工艺中使用二极管激活的SiGe异质结双极晶体管的低电容低电压瞬态电压抑制器
机译:推导Si / SiGe:C和InP / InGaAs异质结双极晶体管的微波噪声性能分析模型的过程
机译:碳浓度对SiGe:C异质结双极晶体管中的1 / f噪声和随机电报信号噪声的影响
机译:SiGe异质结双极晶体管中冲击电离噪声的微观建模
机译:SiGe HBT和RF CMOS的高频噪声建模和微观噪声仿真。
机译:用于高效光伏转换的三端异质结双极晶体管太阳能电池
机译:使用跨阻放大器测量SiGe异质结双极晶体管中的低频基极和集电极电流噪声和相干性