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Fiducial Mark requirements from the viewpoints of EUV Actinic Blank Inspection tool for phase defect mitigation - (PPT)

机译:从Euv Actinic空白检查工具进行阶段缺陷缓解 - (PPT)的基准标记要求

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摘要

FH recommendations are: ML etched; > 100 nm line depth; 3-5 μm-line width. ABI tool is required to equip Magnified Optics to achieve < 10 nm (3σ) error for mitigation (position & size). We need further optimization of FH for the MO of LT ABI tool.
机译:建议是:ML蚀刻; > 100 nm线深; 3-5μm线宽。 ABI工具需要装备放大的光学器件以实现缓解(位置和大小)的<10nm(3σ)误差。我们需要进一步优化LT ABI工具的MO的FH。

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