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International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
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1.
RD Actinic Blank Inspection Microscope - (PPT)
机译:
研发活动空白检查显微镜 - (PPT)
作者:
S. Herbert
;
A. Maryasov
;
S. Danyiyuk
;
L. Juschkin
;
R. Lebert
;
T. Missalia
;
A. Farahzadi
;
W. Diete
;
U. Wiesemann
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
2.
Prediction of Resist Sensitivity for Extreme Ultraviolet Lithography at 6.x nm Wavelength - (PPT)
机译:
6.x nm波长在6.x nm波长下极端紫外光刻的抗蚀剂敏感性预测 - (ppt)
作者:
Tomoko Gowa Oyama
;
Akihiro Oshima
;
Dang Nguyen Tuan
;
Masakazu Washio
;
Seiichi Tagawa
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
3.
POWER SCALING OF THE XTREME LDP EUV SOURCE - (PPT)
机译:
Xtreme LDP EUV源的电源缩放 - (PPT)
作者:
Felix Kupper
;
Jochen Vieker
;
Klaus Bergmann
;
Yusuke Teramoto
;
Jeroen Jonkers
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
4.
EUV resists patterning results at SEMATECH - (PPT)
机译:
EUV抵抗Sematech - (PPT)的图案结果
作者:
Kyoungyong Cho
;
Karen Petrillo
;
Cecilia Montgomery
;
Alexander Friz
;
Yu-jen Fan
;
Chandra Sarma
;
Dominic Ashworth
;
Mark Neisser
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
5.
High efficiency transmission masks for EUV interference lithography - (PPT)
机译:
EUV干扰光刻的高效传输掩模 - (PPT)
作者:
S. Brose
;
L. Juschkin
;
S. Danylyuk
;
H. Kim
;
P. Loosen
;
D. Grutzmacher
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
6.
Wafer Inspection for Monitoring Particles Added to Reticles During Exposure - (PPT)
机译:
用于监测到曝光期间添加到掩盖中的监测颗粒的晶片检测 - (PPT)
作者:
Yoonsuk Hyun
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
7.
Nanoscale Multilayer Membranes as Optical Elements for EUVL - (PPT)
机译:
纳米级多层膜作为EUVL的光学元件 - (PPT)
作者:
Nikolay Salashchenko
;
Valery Luchin
;
Aleksei Lopatin
;
Nikolay Tsybin
;
Nikolay Chkhalo
;
Evgeny Kluenkov
;
Mikhail Drozdov
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
8.
Experience and progress with polychromatic EUV reflectometers and spectrophotometers - (PPT)
机译:
多色EUV反射计和分光光度计 - (PPT)的经验和进展
作者:
R. Lebert
;
T. Missalla
;
C. Phiesel
;
A. Farahzadi
;
W. Diete
;
U. Wiesemann
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
9.
EUV Properties of Laser-Plasma using frozen Xe targets - (PPT)
机译:
使用冷冻XE靶的激光等离子体的EUV特性 - (PPT)
作者:
Andrew Effenberger Jr.
;
Mark Tillack
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
10.
Generation and decomposition of volatile tin hydrides monitored by in situ quartz crystal microbalances - (PPT)
机译:
原位石英晶体微稳压监测挥发性锡氢化物的产生和分解 - (PPT)
作者:
D. Ugur
;
A. Storm
;
R. Verberk
;
J. C. Brouwer
;
W. G. Sloof
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
11.
A novel dry etching process for reducing defects of EUVL photomask - (PPT)
机译:
一种降低EUVL光掩模缺陷的新型干蚀刻方法 - (PPT)
作者:
Jeong Chan Kim
;
Hoon Kim
;
Il-Yong Jang
;
Byounghoon Seung
;
Hee Bom Kim
;
Byung Gook Kim
;
Chan-Uk Jeon
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
12.
Sensor box for in-situ plasma diagnostics in EUV sources - (PPT)
机译:
用于欧盟源的原位等离子体诊断的传感器盒 - (PPT)
作者:
F. T. Molkenboer
;
H. H. P. Th. Bekman
;
F. H. Elferink
;
T. W. Versloot
;
E. te Sligte
;
N. B. Koster
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
13.
Advances in reticle cleaning - (PPT)
机译:
掩盖清洁的进步 - (PPT)
作者:
N. B. Koster
;
F. T. Molkenboer
;
T. W. Versloot
;
J. H. van den Berg
;
J. P. B. Janssen
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
14.
Block Copolymer Mediated Healing of the LER of a Patterned EUVL Resist - (PPT)
机译:
嵌段共聚物介导的图案化EUVL抗蚀剂的愈合 - (PPT)
作者:
Ya-Mi Chuang
;
Han-Hao Cheng
;
Kevin S. Jack
;
Andrew K. Whittaker
;
Michael Leeson
;
Todd Younkin Idriss Blakey
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
15.
Characteristics of 6.X-nm Beyond EUV sources - (PPT)
机译:
超越EUV来源6.x-nm的特征 - (PPT)
作者:
Takeshi Higashiguchi
;
Takamitsu Otsuka
;
Thomas Cummins
;
Colm OGorman
;
Bowen Li
;
Deirdre Kilbane
;
Padraig Dunne
;
Gerry OSullivan
;
Weihua Jiang
;
Akira Endo
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
16.
Productivity of Model EBEYE M for EUVL Mask Inspection - (PPT)
机译:
eBeye M模型的生产力为EUVL面膜检查 - (PPT)
作者:
Shinji Yamaguchi
;
Masato Naka
;
Takashi Hirano
;
Masamitsu Itoh
;
Motoki Kadowaki
;
Toru Koike
;
Yuichiro Yamazaki
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
17.
Advances in Mask Blank Defect Characterization for EUV Lithography - (PPT)
机译:
EUV光刻掩模空白缺陷表征的进步 - (PPT)
作者:
Jenah Harris-Jones
;
Emilio Stinzianni
;
C. C. Lin
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
18.
RECENT DEVELOPMENTS IN CONSTRUCTION OF RESIST TESTING TOOLS FOR THE NXE PLATFORM - (PPT)
机译:
NXE平台抵抗试验工具建设的最新发展 - (PPT)
作者:
Rupert C. C. Perera
;
David C. Houser
;
Senn Ly
;
Feng Dong
;
Glenn Jones
;
James H. Underwood
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
19.
Characterization of layered surface structures using EUV and soft X-ray radiation - (PPT)
机译:
使用EUV和软X射线辐射的层状表面结构的表征 - (PPT)
作者:
Frank Scholze
;
Beatrix Pollakowski
;
Victor Soltwisch
;
Jan Wernecke
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
20.
AN AUTOMATED REFLECTOMETER FOR MEASUREMENT OF REFLECTIVITY OF EUV LITHOGRAPHY MASKS BLANKS AND ABSORBERS TO MEET THE HVM REQUIREMENTS - (PPT)
机译:
用于测量EUV光刻掩模坯料和吸收器的反射率的自动反射仪,以满足HVM要求 - (PPT)
作者:
Rupert C. C. Perera
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
21.
USE OF SCATTEROMETRY FOR NXE:3I00 SCANNER MONITORING - (PPT)
机译:
使用散射测量法为NXE:3I00扫描仪监控 - (PPT)
作者:
A. Charley
;
J. Hermans
;
S. Cheng
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
22.
A Proposal for an EUV light source using transverse flow CO_2 lasers - (PPT)
机译:
使用横向流量CO_2激光器的EUV光源的提案 - (PPT)
作者:
Yoichi Tanino
;
Junichi Nishimae
;
Shuichi Fujikawa
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
23.
PROCESS EVALUATION AND OPTIMIZATION FOR EUV MANUFACTURING - (PPT)
机译:
EUV制造的过程评估和优化 - (PPT)
作者:
Philippe Foubert
;
Kathleen Nafus
;
Hideo Shite
;
Anne-Marie Goethals
;
Koichi Matsunaga
;
Jan Hermans
;
Eric Hendrickx
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
24.
Origin of defects on targets used to make EUV mas - (PPT)
机译:
用于制作EUV MAS的目标的缺陷的起源 - (PPT)
作者:
H. Yu
;
D. Andruczyk
;
D. N. Ruzic
;
V. Jindal
;
P. Kearney
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
25.
Recent improvements in the High-Brightness Electrodeless Z-Pinch EUV Source for Mask Inspection Tools - (PPT)
机译:
掩模检测工具的高亮度无电极Z-PINCH EUV源的最新改进 - (PPT)
作者:
Stephen F. Home
;
Matthew J. Partlow
;
Deborah S. Gustafson
;
Matthew M. Besen
;
Donald K. Smith
;
Paul A. Blackborow
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
26.
Impact of an etched EUV mask Black Border on imaging and overlay - (PPT)
机译:
蚀刻EUV面罩黑色边框对成像和覆盖的影响 - (PPT)
作者:
Robert de Kruif
;
Natalia Davydova
;
Brid Connolly
;
Norihito Fukugami
;
Ad Lammers
;
Vicky Philipsen
;
Shinpei Kondo
;
Eelco van Setten
;
Vidya Vaenkatesan
;
John Zimmerman
;
Noreen Harned
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
27.
High line density free-standing transmission gratings for EUV and VUV emission spectroscopy - (PPT)
机译:
EUV和VUV发射光谱的高线密度独立式传输光谱 - (PPT)
作者:
H. M. J. Bastiaens
;
R. van der Meer
;
B. Vratzov
;
F. Bijkerk
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
28.
New capability at NIST for reflectivity measurements of large EUVL optics - (PPT)
机译:
大型EUVL光学反射率测量NIST的新能力 - (PPT)
作者:
S. Grantham
;
C. Tarrio
;
J. Rife
;
T. B. Lucatorto
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
29.
Flexible EUV and XUV Spectrophotometer for reflection, transmission and absorption metrology - (PPT)
机译:
柔性EUV和XUV分光光度计进行反射,传输和吸收计量 - (PPT)
作者:
A. Farahzadi
;
T. Missalla
;
C. Phiesel
;
U. Wiesemann
;
W. Diete
;
R. Lebert
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
30.
Simulation of mask 'black border' effect in EUV using rigorous models - (PPT)
机译:
使用严格模型的EUV模拟面膜“黑色边框”效应 - (PPT)
作者:
Weimin Gao
;
Ulrich Klostermann
;
Lena Zavyalova
;
Thomas Schmoeller
;
Kevin Lucas
;
Ardavan Niroomand
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
关键词:
EUV simulation;
Black border flare OPC;
31.
Cap layer selection for the collector mirror in tin LPP sources - (PPT)
机译:
锡LPP源中收集器镜的帽层选择 - (PPT)
作者:
Arnold Storm
;
Edwin te Sligte
;
Herman Bekman
;
Freek Molkenboer
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
32.
Projection electron microscopic image simulation for EUV mask pattern inspection - (PPT)
机译:
EUV掩模图案检查的投影电子显微图像仿真 - (PPT)
作者:
Susumu Iida
;
Tsuyoshi Amano
;
Ryoichi Hirano
;
Tsuneo Terasawa
;
Hidehiro Watanabe
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
33.
EUV Sources for Metrology: Experience and RD Portfolio - (PPT)
机译:
EUV计量来源:经验和研发投资组合 - (PPT)
作者:
R. Lebert
;
T. Missalla
;
C. Phiesel
;
B. Jagle
;
A. Farahzadi
;
W. Diete
;
K. Bergmann
;
T. Wilhein
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
34.
The impact of EUV mask residual-type defect thickness on wafer printability - (PPT)
机译:
EUV掩模残留型缺陷厚度对晶圆印刷的影响 - (PPT)
作者:
Tsuyoshi Amano
;
Susumu Iida
;
Ryoichi Hirano
;
Tsuneo Terasawa
;
Hidehiro Watanabe
;
Yuichi Inazuki
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
35.
DISCHARGE BASED EUV SOURCE FOR MASK INSPECTION - (PPT)
机译:
基于放电的掩模检查的EUV源 - (PPT)
作者:
Jochen Vieker
;
Klaus Bergmann
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
36.
Solutions for EUV Mask Inspection - (PPT)
机译:
EUV面罩检查解决方案 - (PPT)
作者:
Gregg Inderhees
;
Dan Wack
;
Mark Wagner
;
Yalin Xiong
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
37.
3D Reticle Effects for High-NA EUV Lithography - (PPT)
机译:
高NA EUV光刻的3D掩盖效果 - (PPT)
作者:
Jens Timo Neumann
;
Paul Graupner
;
Johannes Ruoff
;
Winfried Kaiser
;
Reiner Garreis
;
Bernd Geh
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
38.
OPENING ADDRESS - (PPT)
机译:
开放地址 - (PPT)
作者:
KURT RONSE
;
ROEL GRONHEID
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
39.
Fiducial Mark requirements from the viewpoints of EUV Actinic Blank Inspection tool for phase defect mitigation - (PPT)
机译:
从Euv Actinic空白检查工具进行阶段缺陷缓解 - (PPT)的基准标记要求
作者:
Tetsumori Murachi
;
Tsuyoshi Amano
;
Sung Hyun Oh
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
40.
Silica Aerogel Can Capture Flying Particles in EUV Tools - (PPT)
机译:
Silica Airgel可以在EUV工具中捕获飞行粒子 - (PPT)
作者:
OTA Kazuya
;
INOUE Jiro
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
41.
CORNING: ULE Glass with Improved Thermal Properties for EUVL Masks and Projection Optics Substrates - (PPT)
机译:
康宁:ULE玻璃,具有改善EUVL面罩和投影光学基板的热性能 - (PPT)
作者:
Ken Hrdina
;
Carlos Duran
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
42.
Systematic Study of New Chemistries For EUV Mask Cleaning - (PPT)
机译:
EUV面膜清洗新化学系统的系统研究 - (PPT)
作者:
Ruhai Tian
;
Abbas Rastegar
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
43.
Characterization of NXE3100 in view of 1Xnm node DRAM patterning - (PPT)
机译:
1xNM节点DRAM图案鉴于NXE3100的表征 - (PPT)
作者:
Sunyoung Koo
;
Seokkyun Kim
;
Juntaek Park
;
Yoonsuk Hyun
;
Chang-Moon Lim
;
Myoungsoo Kim
;
Hyosang Kang
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
44.
Extending Patterning Capability Using Directed Self-Assembly - (PPT)
机译:
使用定向自组装 - (PPT)扩展图案化能力
作者:
Joy Cheng
;
Gregory Doerk
;
Chi-Chun Liu
;
Jed Pitera
;
Charles Rettner
;
Melia Tjio
;
Kafai Lai
;
Neal Lafferty
;
Hoa Truong
;
Noel Arellano
;
Srini Balakrishnan
;
Daniel Sanders
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
45.
EUVL mask repair: expanding options with nanomachining - (PPT)
机译:
EUVL面具修复:扩展纳米轴线 - (PPT)
作者:
Gregory Mclntyre
;
Emily Gallagher
;
Mark Lawliss
;
Tod Robinson
;
Jeffrey LeClaire
;
Ron Bozak
;
Roy White
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
46.
Status of phase defect printability studies in EIDEC - (PPT)
机译:
eidec阶段缺陷可印刷性研究的状态 - (PPT)
作者:
Tsuneo Terasawa
;
Tsuyoshi Amano
;
Sunghyun Oh
;
Yukiyasu Arisawa
;
Takeshi Yamane
;
Hidehiro Watanabe
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
47.
Simulation Results from the AIMS EUV Development Project - (PPT)
机译:
AIMS EUV开发项目的仿真结果 - (PPT)
作者:
Anthony Garetto
;
Dirk Heliweg
;
Jan Hendrik Peters
;
Sascha Perlitz
;
Markus Weiss
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
48.
New approach for reducing the Out of Band effect and outgassing by applying top coat materials - (PPT)
机译:
用涂层涂层材料减少带外效应和排出的新方法 - (PPT)
作者:
Ryuji Onishi
;
Noriaki Fujitani
;
Rikimaru Sakamoto
;
Bang-ching Ho
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
49.
PROGRESS IN UNDERSTANDING EUV RESIST RELATED OUTGASSING AND CONTAMINATION - (PPT)
机译:
理解EUV抵制相关偏差和污染的进展 - (PPT)
作者:
I. POLLENTIER
;
R. LOKASANI
;
R. GRONHEID
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
50.
EUV Resist Process Development at EIDEC: EUVL Infrastructure Development Center Inc. - (PPT)
机译:
EIDEC的EUV抵制流程开发:EUVL基础设施开发中心Inc. - (PPT)
作者:
Eishi Shiobara
;
Norihiko Sugie
;
Toshiya Takahashi
;
Yukiko Kikuchi
;
Ryuji Onishi
;
Julius Santillan
;
Hiroyuki Tanaka
;
Shunko Magoshi
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
51.
Theoretical Study of Deprotonation of Polymer Radical Cation for EUV Resist - (PPT)
机译:
EUV抗蚀剂聚合物自由基阳离子去质子的理论研究 - (PPT)
作者:
Masayuki Endo
;
Seiichi Tagawa
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
52.
IMPACT OF MASK STACK ON HIGH NA EUV IMAGING - (PPT)
机译:
面罩堆栈对高NA EUV成像的影响 - (PPT)
作者:
VICKY PHILIPSEN
;
ERIC HENDRICKX
;
RIK JONCKHEERE
;
GEERT VANDENBERGHE
;
NATALIA DAVYDOVA
;
TIMON FLIERVOET
;
JENS TIMO NEUMANN
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
53.
2012 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography: Optics for the NXE:3300 - (PPT)
机译:
2012年极端紫外线光刻国际研讨会:NXE的光学元件:3300 - (PPT)
作者:
Martin Lowisch
;
Peter Kurz
;
Olaf Conradi
;
Winfried Kaiser
;
Wolfgang Seitz
;
Gero Wittich
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
54.
EUV Actinic Blank Inspection Tool Development - (PPT)
机译:
EUV Actinic空白检查工具开发 - (PPT)
作者:
Kiwamu Takehisa
;
Hiroki Miyai
;
Tomohiro Suzuki
;
Haruhiko Kusunose
;
Takeshi Yamane
;
Tsuneo Terasawa
;
Hidehiro Watanabe
;
Soichi Inoue
;
Ichiro Mori
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
55.
MINIMIZING PARTICLE CONTAMINATION OF NXE3100 RETICLES - (PPT)
机译:
最小化NXE3100睾丸颗粒污染 - (PPT)
作者:
RIK JONCKHEERE
;
BART BAUDEMPREZ
;
TOBIAS WAEHLER
;
DIETERVAN DEN HEUVEL
;
HEIKO SCHMALFUB
;
OLIVER BRUX
;
PETER DREB
;
CHRISTOPH KAPPEL
;
LEANDER ZICKLER
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
56.
EUV Resist Outgas Testing at SEMATECH-CNSE - (PPT)
机译:
EUV抵抗Sematech-CNSE - (PPT)的Outgas测试
作者:
Chandra Sarma
;
Gregory Denbeaux
;
Genevieve Kane
;
Yudhishthir Kandel
;
Mihir Upadhyaya
;
Yashdeep Khopkar
;
Jennifer Massier
;
Dominic Ashworth
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
57.
Rigorous Modeling and Optimization of Multilayer Defect Repair - (PPT)
机译:
多层缺陷修复的严格建模与优化 - (PPT)
作者:
A. Erdmann
;
P. Evanschitzky
;
T. Bret
;
R. Jonckheere
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
58.
A Comparison of Positive- and Negative-tone Contact Hole Process Flows Using the IMEC NXE:3100 - (PPT)
机译:
使用IMEC NXE:3100 - (PPT)的正面和负色调接触孔过程流动的比较
作者:
Todd R. Younkin
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
59.
ASML NXE: 3100 - PRE-PRODUCTION EUV SCANNER PERFORMANCE AT IMEC - (PPT)
机译:
ASML NXE:3100 - IMEC的预生产EUV扫描仪性能 - (PPT)
作者:
ERIC HENDRICKX
;
JAN HERMANS
;
GIAN LORUSSO
;
PHILIPPE FOUBERT
;
PETER DE BISSCHOP
;
GEERT VANDENBERGHE
;
KURT RONSE
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
60.
EUVL Image-based Aberration Metrology - (PPT)
机译:
基于EUVL图像的像差计量 - (PPT)
作者:
Germain Fenger
;
Bruce W. Smith
;
Sudharshanan Raghunathan
;
Lei Sun
;
Thomas Wallow
;
Deniz Civay
;
Obert Wood
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
61.
EUV Mask Inspection State Of The Art - (PPT)
机译:
EUV面具检验技术 - (PPT)
作者:
Ilan Englard
;
Wolf Staud
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
关键词:
Mask Inspection;
Mask Inspection;
62.
Progress on Laser Assisted Discharge Produced Plasma (LDP) EUV Light Source Technology - (PPT)
机译:
激光辅助放电生产等离子体(LDP)EUV光源技术 - (PPT)
作者:
Rolf Apetz
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
63.
Development of DSA Approaches for Healing of LER and Shrinking of CD that are Compatible with Standard EUV Resists - (PPT)
机译:
DSA愈合术方法的开发和与标准EUV抗蚀剂兼容的CD缩减 - (PPT)
作者:
Idriss Blakey
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
64.
EUV Resist Materials Design for 15 nm Half Pitch and Below - (PPT)
机译:
EUV抗蚀材料设计15纳米半间距和下方 - (PPT)
作者:
Hideaki Tsubaki
;
Shinji Tarutani
;
Hiroo Takizawa
;
Takahiro Goto
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
65.
Enhancing Resolution of the Albany Alpha-Demo Tool (ADT) with Pupil Filtering - (PPT)
机译:
增强瞳孔过滤的Albany Alpha-Demo工具(ADT)的分辨率 - (PPT)
作者:
Gregory McIntyre
;
Leon Teeuwen
;
Obert Wood
;
Erik Sohmen
;
Daniel Corliss
;
Theo van den Akker
;
Sander Bouten
;
Eelco van Setten
;
Oleg Voznyi
;
Sang-In Han
;
Hermann Bieg
;
Martin Burkhardt
;
Karen Petrillo
;
Alexander Friz
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
66.
EUV enables single exposure 14nm node - First NXE:3300B exposures at ASML - (PPT)
机译:
EUV启用单曝光14NM节点 - ASML的第一个NXE:3300B曝光 - (PPT)
作者:
Stuart Young
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
67.
Novel EUV Resist Materials and Process for 16 nm Half Pitch and Beyond - (PPT)
机译:
新颖的EUV抗蚀剂材料和16纳米半间距和超越 - (PPT)
作者:
Ken Maruyama
;
Yoshi Hishiro
;
Ryu Imoto
;
Makoto Shimizu
;
Tooru Kimura
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
68.
New developments in resist-outgas testing at NIST - (PPT)
机译:
NIST - (PPT)抗蚀剂抗抗抗杆测试的新发展
作者:
Shannon Hill
;
C. Tarrio
;
N. Faradzhev
;
S. Grantham
;
L. Richter
;
B. Berg
;
T. Lucatorto
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
69.
A Driver CO_2 Laser Using Transverse-flow CO_2 Laser Amplifiers
机译:
使用横向流CO_2激光放大器的驱动器CO_2激光器
作者:
Y. Tanino
;
J. Nishimae
;
T. Yamamoto
;
K. Funaoka
;
T. Tamida
;
S. Tsuda
;
S. Fujikawa
;
T. Ohta
;
Y. Kawasuji
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
70.
Current status of EUV patterned mask inspection tool for hp 16 nm and beyond
机译:
HP 16 NM及以外的EUV图案掩模检查工具的当前状态
作者:
Ryoichi Hirano
;
Susumu Iida
;
Tsuyoshi Amano
;
Tsuneo Terasawa
;
Hidehiro Watanabe
;
Masahiro Hatakeyama
;
Takeshi Murakami
;
Kenji Terao
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
71.
Challenges and Considerations associated with EUV photomask defectivity and repair
机译:
与EUV Photomask相关的挑战和考虑因素缺陷和修复
作者:
Anthony Garetto
;
Markus Waiblinger
;
Thomas Scheruebl
;
Jan-Hendrik Peters
;
Michael Goldstein
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
72.
Resist outgassing characterization of PAG-blended and PAG-bound systems
机译:
抵抗PAG混合和PAG绑定系统的分散特征
作者:
Kazuhiro Katayama
;
Toshiya Takahashi
;
Norihiko Sugie
;
Isamu Takagi
;
Yukiko Kikuchi
;
Eishi Shiobara
;
Hiroyuki Tanaka
;
Soichi Inoue
;
Takeo Watanabe
;
Tetsuo Harada
;
Hiroo Kinoshita
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
73.
Biased target deposition for EUV mask blanks
机译:
EUV掩模空白的偏置目标沉积
作者:
Patrick Kearney
;
Hengda Zhang
;
Trey Middleton
;
Frank Goodwin
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
74.
Development of Coherent EUV Scatterometry Microscopes for EUV Mask Evaluation
机译:
EUV掩模评估的相干EUV散射术微观的研制
作者:
Tetsuo Harada
;
Yusuke Tanaka
;
Takeo Watanabe
;
Hiroo Kinoshita
;
Yutaka Nagata
;
Youichi Usui
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
75.
Advances in Directly Patternable Metal Oxides for EUV Resist
机译:
直接可图案化金属氧化物用于EUV抗蚀剂
作者:
Andrew Grenville
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
76.
Progress in Negative Tone Organic Resists Based on Epoxide Cross-linking for EUVL
机译:
基于Euv1的环氧化物交联的阴性有机抗蚀剂进展
作者:
Richard A. Lawson
;
Clifford L. Henderson
;
Jun Sung Chun
;
Mark Neisser
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
77.
The First 0.5 NA Projection Optic for Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Microfield Exposure Tool ('MET5')
机译:
用于极端紫外线光刻(EUVL)MicroField曝光工具(“Met5”)的第一个0.5 NA投影光学器件
作者:
Kevin Cummings
;
Dominic Ashworth
;
Mark Bremer
;
Rodney Chin
;
Yu-Jen Fan
;
Luc Girard
;
Holger Glatzel
;
Michael Goldstein
;
Eric Gullikson
;
Jim Kennon
;
Bob Kestner
;
Lou Marchetti
;
Ryan Miyakawa
;
Patrick Naulleau
;
Regina Soufli
;
Xibin Zhou
;
Yudhi Kandel
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
78.
EUV mask defects and their modulation
机译:
EUV掩模缺陷及其调制
作者:
Emily Gallagher
;
Kazunori Seki
;
Karen Badger
;
Gregory McIntyre
;
Toshio Konishi
;
Shinji Akima
;
Kenneth Goldberg
;
Iacopo Mochi
;
Markus Benk
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
79.
Novel EUV Resist Materials Design for 15 nm Half Pitch and Below
机译:
新型EUV抗蚀材料设计为15纳米半间距和下方
作者:
Hideaki Tsubaki
;
Shinji Tarutani
;
Toru Fujimori
;
Hiroo Takizawa
;
Takahiro Goto
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
80.
ASML NXE:3100 PRE-PRODUCTION EUV SCANNER PERFORMANCE AT IMEC
机译:
ASML NXE:IMEC的3100预生产EUV扫描仪性能
作者:
ERIC HENDRICKX
;
JAN HERMANS
;
GIAN LORUSSO
;
PHILIPPE FOUBERT
;
MIEKE GOETHALS
;
RIK JONCKHEERE
;
GEERT VANDENBERGHE
;
KURT RONSE
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
81.
Imaging performance at 22nm and beyond with the NXE:3300
机译:
22nm及以上的成像性能与NXE:3300
作者:
Koen van Ingen Schenau
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
82.
INTRODUCTION OF EUV IN IMEC'S DEVICE PROGRAMS
机译:
IMEC设备计划中的EUV引入
作者:
MONIQUE ERCKEN
;
TOM VANDEWEYER
;
JANKO VERSLUIJS
;
VINCENT TRUFFERT
;
GUSTAF WINROTH
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
83.
Solutions for Mask Metrology with Lab-Sources
机译:
利用实验室的掩模计量解决方案
作者:
Rainer Lebert
;
Thomas Missalla
;
Christoph Phiese
;
Azadeh Farahzadi
;
Wolfgang Diete
;
Stefan Herbert
;
Serhiy Danylyuk
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
84.
A Natural RET for EUVL
机译:
Euvl的自然权利
作者:
Shinn-Sheng Yu
;
Yen-Cheng Lu
;
Chih-Tsung Shih
;
Jack J. H. Chen
;
Anthony Yen
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
85.
EUV Sensitive Si Hard Mask Materials both for PTI NTI Process
机译:
EUV敏感SI硬膜材料,适用于PTI和NTI工艺
作者:
O. Wataru Shibayama
;
Shuhei Shigaki
;
Rikimaru Sakamoto
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
86.
Study of the relation among Resist components, Outgassing species and Contamination
机译:
抗蚀剂组分关系的研究,排出物种和污染
作者:
Yukiko Kikuchi
;
Toshiya Takahashi
;
Norihiko Sugie
;
Isamu Takagi
;
Kazuhiro Katayama
;
Eishi Shiobara
;
Hiroyuki Tanaka
;
Soichi Inoue
;
Takeo Watanabe
;
Tetsuo Harada
;
Hiroo Kinoshita
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
87.
EUV RESIST EVALUATION AND PROCESS OPTIMIZATION TOWARDS NXE:3300
机译:
EUV抵抗评估和过程优化对NXE:3300
作者:
ANNE-MARIE GOETHALS
;
PHILIPPE FOUBERT
;
FRIEDA VAN ROEY
;
ERIC HENDRICKX
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2014年
88.
Development of new negative-tone molecular resists based on C-4-cyclohexylphenyl4calixarene for EUVL - (PPT)
机译:
基于C-4-环己基苯基的新负性分子抗性的研制4钙芳烃,Euvl - (PPT)
作者:
Masatoshi Echigo
;
Hiromi Hayash
;
Hiroaki Oizumi
;
Kazuyuki Matsumaro
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2011年
89.
Basic performance evaluation of novel Projection Electron Microscopy (PEM) system for EUV mask pattern inspection - (PPT)
机译:
新型投影电子显微镜(PEM)系统对EUV掩模模式检验的基本性能评价 - (PPT)
作者:
Ryoichi Hirano
;
Susumu Iida
;
Tsuyoshi Amano
;
Hidehiro Watanabe
;
Tsuneo Terasawa
;
Masahiro Hatakeyama
;
Takeshi Murakami
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
90.
Multilayer-based solutions for suppression of IR radiation in EUV systems - (PPT)
机译:
基于多层的EUV系统抑制IR辐射的解决方案 - (PPT)
作者:
V. V. Medvedev
;
A. E. Yakshin
;
E. Louis
;
R. W. E. van de Kruijs
;
A. J. R. van den Boogaard
;
F. A. van Goor
;
V. M. Krivtsun
;
A. M. Yakunin
;
F. Bijkerk
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
91.
Chemically Amplified EUV Resist and Materials Development for 22 nm Half Pitch and Beyond - (PPT)
机译:
化学扩增的EUV抗蚀剂和材料发育22 nm半间距和超越 - (PPT)
作者:
Makoto Shimizu
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
92.
New Test Vehicle with a Variety of Programmed ML Defects for EUV Blanks Inspection - (PPT)
机译:
具有各种编程ML缺陷的新型测试车,用于EUV坯料检查 - (PPT)
作者:
Yutaka Kodera
;
Kazuaki Matsui
;
Satoshi Takahashi
;
Yo Sakata
;
Shinji Akima
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
93.
Multilayer coatings for the lithography generation beyond EUVL - (PPT)
机译:
超越EUVL的光刻发电的多层涂层 - (PPT)
作者:
Igor Makhotkin
;
Eric Louis
;
Erwin Zoethout
;
Andrey Yakunin
;
Vadim Banine
;
Stephan Mullender
;
Fred Bijkerk
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
94.
Development of New Negative-tone Molecular Resists Based on Phenylcalix 4 resorcinarene for EUVL: Investigation of correlation with the octanol water partition coefficient and the sensitivity of negative -tone molecular resists - (PPT)
机译:
基于苯基碱的新负性分子抗性的开发4反子丙烯用于EUVL:与辛醇水分配系数的相关性研究,阴性分子抗蚀剂的敏感性 - (PPT)
作者:
Masatoshi Echigo
;
Masako Yamakawa
;
Yumi Ochiai
;
Yu Okada
;
Masaaki Takasuka
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
95.
Study of a CDMAP function for an EUV mask using NPI-7000 - (PPT)
机译:
使用NPI-7000 - (PPT)对EUV掩模的CDMAP函数研究 - (PPT)
作者:
Hideaki Hashimoto
;
Nobutaka Kikuiri
;
Yoshitake Tsuji
;
Ikunao Isomura
;
Manabu Isobe
;
Noriaki Musash
;
Masaya Takeda
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
96.
Novel Si-contained Inorganic Hard Mask (Si-HM) for around Hp 20nm - (PPT)
机译:
HP 20NM周围的新型Si含有无机硬面膜(Si-HM) - (PPT)
作者:
Wataru Shibayama
;
Shuhei Shigaki
;
Rikimaru Sakamoto
;
Bang Ching Ho
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
97.
P-OP-08: The Characterization of the Witness Sample testing for the Outgassing Qualification of EUV Resists - (PPT)
机译:
P-OP-08:euv抗蚀剂超出鉴定的证人样本测试的表征 - (PPT)
作者:
Yukiko Kikuchi
;
Toshiya Takahashi
;
Norihiko Sugie
;
Kazuhiro Katayama
;
Isamu Takagi
;
Eishi Shiobara
;
Hiroyuki Tanaka
;
Soichi Inoue
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
98.
Advanced LPP Architecture for an EUVL SoCoMo - (PPT)
机译:
EUVL Socomo的高级LPP架构 - (PPT)
作者:
Giovanni Bianucci
;
Natale M. Ceglio
;
Giuseppe Valsecchi Fabio Zocchi
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
99.
Challenges of cleaning of EUV masks below the sub-16 nm HP - (PPT)
机译:
在Sub-16 NM HP-(PPT)下方清洁EUV面膜的挑战 - (PPT)
作者:
Abbas Rastegar
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
100.
STUDY OF MULTILAYER DEFECTS ON SUB-32NM HP EUV RETICLES - (PPT)
机译:
亚32NM HP EUV晶体栓塞多层缺陷研究 - (PPT)
作者:
DIETER VAN DEN HEUVEL
;
RIK JONCKHEERE
;
TRISTAN BRET
;
MARKUS WAIBLINGER
会议名称:
《International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography》
|
2012年
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