Reactive magnetron sputtering; DC sputtering; Titanium dioxide; Hydrophilic;
机译:反应性直流磁控溅射沉积钛氧化物薄膜的相形成:氧分压和氮掺杂的影响
机译:溅射压力和后退火对反应磁控溅射沉积TiO_2薄膜亲水性的影响
机译:在不同氧分压下沉积的直流反应堆磁控溅射氧化铜薄膜的性能变化
机译:总反应直流磁控溅射沉积的TiO_2薄膜结构和亲水性的影响
机译:直流反应磁控溅射沉积的新型薄膜透明导电氧化物。
机译:N2分压对液靶反应磁控溅射外延沉积GaN纳米棒生长结构和光学性能的影响
机译:直流反应磁控溅射沉积的TiO2薄膜的氧分压依赖性