机译:(100)/(001)取向外延Pb(Zr_(0.35),Ti_(0.65))O_3薄膜的电学性能比较,在(100)Si和(100)SrTiO_3衬底上生长具有相同(001)域分数的薄膜
机译:化学溶液沉积法(001)和(116)取向SrBi_2Ta_2O_9薄膜的外延生长
机译:(100)_cSrRuO_3‖(100)上生长的(100)-/(001)取向外延Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3-PbTiO_3薄膜的晶体结构,电学性质和机械响应金属有机化学气相沉积法制备SrTiO_3衬底
机译:直接比较外延(001) - ,(116) - ,和(103)的SRBI {Sub} 2Ta {Sub} 2TA {Sub} 2上的SRTIO {Sub} 3和硅基板上的结构和电性能
机译:硅衬底上氧化锌薄膜的外延生长和性能。
机译:通过极化旋转描述硅上(001)和(110)取向(PbMg1 / 3Nb2 / 3O3)2 / 3-(PbTiO3)1/3薄膜的外延特性
机译:外延(001) - ,(116) - 和(103) - 取向srBi2Ta2O9薄膜在srTiO3和硅衬底上的结构和电学性质的直接比较
机译:外延srBi(sub 2)Nb(sub 2)O(sub9)和srBi(sub 2)Ta(sub 2)O(sub 9)薄膜的微观结构和电学性质