immersion; pre-exposure rinse; post-exposure rinse; water mark; water droplet;
机译:增强了利用点过滤器的清洁及其对浸没式磁带光刻过程中晶片缺陷的有效性
机译:浸入式ArF光刻工艺中使用点过滤器的增强清洁及其对晶片缺陷的有效性
机译:ArF准分子浸没光刻技术制造的具有杂散光减少方案的Si线阵列波导光栅
机译:ARF浸入光刻的缺陷减少研究
机译:燃料电池中缺陷石墨烯的氧还原反应催化性能的理论研究。
机译:溶剂浸渍压印光刻:高性能半自动程序
机译:偏振照明对45nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
机译:项目编号aRF 2188合同NOas 60-6019-c通过减少和挤压整合生产钼合金报告编号aRF 2188-6(摘要)1959年9月18日 - 1960年9月17日