机译:聚(2-三甲基甲硅烷基-2-丙基甲基丙烯酸酯)的合成及其作为可干显影的化学放大光刻胶的应用
机译:甲基丙烯酸甲酯骨干聚合物化学放大电子束抵抗模型系统中的敏化距离和产酸效率
机译:基于聚(邻羟基酰胺),活性酯型交联剂和光碱产生剂的碱性可显影,化学放大的负型光敏聚(苯并恶唑)抗蚀剂。
机译:基于甲基丙烯酸甲酸甲甲硅烷基-2-丙酯保护基的甲基丙烯酸酯聚合物化学放大抗蚀剂
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:基于甲基丙烯酸丁香酚酯的新型单体甲基丙烯酸甲酯的合成聚合和共聚-表征和热性能
机译:甲基丙烯酸酯骨架聚合物化学放大电子束抗蚀剂模型系统中的敏化距离和酸产生效率
机译:甲基丙烯酸酯基电子束抗蚀剂聚合物降解和选择性溶解的化学因素:核磁共振和电子自旋共振研究