extreme ultraviolet; lithography; alignment; aberrations;
机译:伯克利0.3数值孔径极紫外微场光学系统中火炬的光刻特征
机译:视场散光的光刻特征和0.3数值孔径极端紫外微场光学器件的对准稳定性
机译:交付了下一代EUV平版印刷工具
机译:0.3 NA EUV显微曝光工具中低阶像差的光刻特征
机译:使用相位轮靶测量光刻投影系统中的像差。
机译:在单次损伤阈值以下的长期自由电子激光照射下EUV镜辐射损伤抵抗性的实验研究
机译:0.3纳EUV微型曝光工具中低阶畸变的光刻表征