Department of Materials Science and Engineering, Pusan National University, Pusan 609-735, South Korea;
ITO films; microstructure; electrical properties; magnetron sputtering; erosion ratio;
机译:溅射功率对带有旋转圆柱靶的脉冲直流磁控溅射沉积的ZnO:Ga透明导电氧化物膜性能的影响
机译:直流磁控溅射沉积锡掺杂氧化铟和铟锌氧化物薄膜的结构和内应力
机译:直流磁控溅射沉积铟锡氧化物(ITO)膜中锡浓度对触摸屏的影响
机译:直流磁控溅射法研究不同导电ITO靶沉积的氧化铟锡薄膜
机译:直流反应磁控溅射沉积的新型薄膜透明导电氧化物。
机译:氧浓度对超薄射频磁控溅射沉积铟锡氧化物薄膜作为光伏器件上电极的性能的影响
机译:DC磁控管溅射ITO薄膜用氧化铟锡靶涂抹。