Fraunhofer-Institut Angewandte Festkoerperphysik, Tullastrasse 72, 79108 Freiburg, Germany;
semiconductor-device characterization, design, and modeling; field effect devices;
机译:用于功率应用的SiC和Si衬底上常关p-GaN栅极AlGaN / GaN HEMT的高温性能
机译:嵌入式栅结构方法通常用于电力电子应用中的高压AlGaN / GaN HEMT
机译:在Ka波段应用基于AlGaN背势HEMT技术的InAlGaN / GaN SiC
机译:在蓝宝石和SIC上开发2“--Algan / GaN HEMT技术,MM波高压电力应用
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:用多指架构调制对高功率应用的自终止蚀刻技术常关P-GAN / ALGAN / GAN HEMT的研究
机译:微波炉频道温度模型/ SiC和蓝宝石的微波炉/ GaN Power Hemts
机译:高功率,高效率sspas中siC和蓝宝石mmIC上微波alGaN / GaN HEmT的沟道温度模型