Adv. Discrete Dev. Center Toshiba Corp. Ishikawa Japan;
机译:具有多阶场板的绝缘体上高压硅上线性可变掺杂的薄硅层的击穿电压模型和结构实现
机译:1.2 kV SiC沟通MOSFET的双P底结构,抑制在氧化物处的电场挤压
机译:沟槽氧化物和场板对SOI LDMOSFET击穿电压的影响
机译:100 V类多阶梯式氧化物场板沟槽MOSFET(MSO-FP-MOSFET)旨在实现最终的结构实现
机译:氮化镓金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)结构的生长,表征和器件处理。
机译:一种新型具有斜坡场板的Resurf阶梯式氧化物mOsFET