Louisiana State University, Center for Advanced Microstructures and devices (CAMD), 6980 Jefferson Hwy, Baton Rouge, LA 70806, USA;
X-ray mask; ultra deep X-ray lithography; LIGA; SU-8; high aspect ratio;
机译:基于基于铅的X射线掩模的X射线光刻和干膜转移至PCB工艺的静电MEMS微致动器的制造
机译:用深X射线光刻制造薄膜人造金属电网谐振器天线阵列的制造
机译:结合粒子法制造数字X射线自动曝光控制的薄膜X射线传感器
机译:使用薄膜UV光刻和X射线背面暴露在铍上为UDXRL制造大面积X射线面罩
机译:相对X射线谱线强度及其在单个标准程序中的应用,用于对大体积样品和薄膜进行定量X射线微分析。
机译:通过软紫外-纳米压印光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火处理大规模制造纳米图案化的蓝宝石衬底
机译:威斯康星大学X射线光刻中心X射线光刻束线的铍窗和声延迟线设计
机译:通过具有50nm线宽的X射线掩模的三电平电子束光刻制造,以及通过X射线纳米光刻复制