Air Products and Chemicals, Inc., Allentown, PA, USA 18195;
pattern collapse; defect level; surface conditioning solution; 248 nm process;
机译:高纵横比图案化中阳离子表面活性剂在光致抗蚀剂表面的吸附及其对图案塌陷的影响
机译:阳离子表面活性剂在光致抗蚀剂表面的吸附-一种减少高比例绘制中图案塌陷的方法
机译:洗涤液流动条件对水果表面大肠杆菌O157:H7种群减少的影响的建模
机译:通过表面调节剂解决方案降低248nm光刻的图案塌陷和线宽粗糙度
机译:图案化表面对降低热阻的影响。
机译:红外光谱监测还原条件下α-Fe2O3(0001)表面的结构演变
机译:具有三角形图案的穿孔板的塌陷表面,韧带效率在0.05和0.50之间
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