Department of Electrical Engineering, National Taiwan University, Taipei, Taiwan;
rnDepartment of Electrical Engineering, National Taiwan University, Taipei, Taiwan;
rnDepartment of Electrical Engineering, National Taiwan University, Taipei, Taiwan;
rnDepartment of Electrical Engineering, National Taiwan University, Taipei, Taiwan;
rnDepartment of Electrical Engineering, National Taiwan University, Taipei, Taiwan;
electron beam lithography; proximity effect correction;
机译:点扩展函数精度对低压电子束直接写入光刻中图形预测和邻近效应校正的影响
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:一种基于稀疏矩阵模型的光学邻近校正算法,在分段和控制点之间具有基于模型的映射
机译:基于模型的电子束直接写入光刻校正校正
机译:通过光学邻近校正来补偿极紫外光刻图像场边缘效应。
机译:热纳米压印光刻技术用于超分辨率荧光显微镜中的漂移校正
机译:反向光刻作为DFm工具:利用基于模型的辅助特征放置,快速光学邻近校正和光刻热点检测加速设计规则开发
机译:电子束光刻的邻近效应校正程序