IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium,Katholieke Universiteit Leuven, Department of Electrical Engineering (ESAT), Kasteelpark Arenberg 10, B-3001, Leuven, Belgium;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
Tokyo Electron Europe Ltd., Kerkenbos 10-15, Unit C, 6546 BB, Nijmegen, The Netherlands;
EMD Performance Materials Corp. 70 Meister Ave. Somerville, NJ 08876, USA;
EMD Performance Materials Corp. 70 Meister Ave. Somerville, NJ 08876, USA;
EMD Performance Materials Corp. 70 Meister Ave. Somerville, NJ 08876, USA;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
DSA; frequency multiplication; block copolymer; chemo-epitaxy; hexagonal array; cylindrical phase; pillars; contact holes;
机译:具有多个图案化的DSA有效布局分解方法,在接触孔中
机译:六角形阵列图案PMMA缓冲层,用于有效的空穴传输和基于FTO的有机太阳能电池的定制界面性质
机译:用于存储器的六角孔阵列图案
机译:通过ARFI预先图案的化学外延DSA图案化亚25nm半间距六边形六边形六角形阵列
机译:模拟光刻胶接触孔阵列的热回流。
机译:直接接触印刷光刻技术在软基板上构图的阵列金属纳米结构的波导等离子体共振
机译:通过直接接触印刷光刻在软基板上图案化的阵列金属纳米结构的波导等离子体谐振