Université Côte d'Azur, CNRS, CRHEA (UPR10), France;
Laboratoire Charles Coulomb - CNRS/Université de Montpellier, Pl. Eugène Bataillon, 34095 Montpellier, France;
Laboratoire Charles Coulomb - CNRS/Université de Montpellier, Pl. Eugène Bataillon, 34095 Montpellier, France;
Laboratoire Charles Coulomb - CNRS/Université de Montpellier, Pl. Eugène Bataillon, 34095 Montpellier, France;
Université Côte d'Azur, CNRS, CRHEA (UPR10), France;
Université Côte d'Azur, CNRS, CRHEA (UPR10), France;
NOVASiC, Savoie Technolac, Arche Bat 4, BP267, 73375 Le Bourget du Lac, France;
NOVASiC, Savoie Technolac, Arche Bat 4, BP267, 73375 Le Bourget du Lac, France;
Université Côte d'Azur, CNRS, CRHEA (UPR10), France;
Université Côte d'Azur, CNRS, CRHEA (UPR10), France;
Graphene; Substrates; Silicon carbide; Buffer layers; Silicon; Strain; Atmosphere;
机译:石墨烯在SiC(0001)上的CVD生长:衬底截止的影响
机译:在4H-SiC(0001)衬底上CVD异质外延生长3C-SiC
机译:石墨烯在2“ 3C-SiC / Si模板上的CVD生长:衬底取向和晶片均质性的影响
机译:石墨烯的CVD生长SiC(0001):基板摘机的影响
机译:微金属应用中通过金属有机气相外延生长在6H-SiC(0001)衬底上的GaN和AlGaN的生长,掺杂和表征。
机译:氢钝化对SiC(0001)衬底上石墨烯去耦的影响:第一性原理计算
机译:直接测量石墨烯生长模式SiC(0001)和SIC(0001)