硅靶掺铝的磁控溅射镀膜工艺控制研究

摘要

在现代建筑玻璃行业中，低辐射镀膜玻璃在未来建筑节能材料中将发挥重要作用。SiA1Nx材料作为低辐射镀膜玻璃最常用的材料之一，对整体膜层的控制有着重要的作用，本文从Si90A110靶材在溅射镀膜过程中的氢气与氮气的分压比变化对膜层材料影响的角度分析，寻找最优工艺控制。在Si90A110靶材的镀膜溅射过程中，保持氢气与氮气的比值为1:1.2可以得到折射率相对较稳定的膜层，能够减少散光，有利于膜层在不同角度上的色彩控制;氢气与氮气的比值为1:1.2可以得到较高消光系数的膜层，有利于低可见光反射膜层的生产，氢气与氮气的比值为1:1可以得到较低消光系数的膜层，有利于外观色彩质感较强膜层的生产;Si90A110靶材的镀膜溅射率随着氮气分压的升高而降低，并且下降幅度逐渐减少。