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张红;
中国耀华玻璃集团公司耀华镀膜玻璃厂;
066004;
建筑镀膜玻璃; 真空磁控溅射; 阴极靶;
机译:相对靶磁控溅射法制备大面积SmBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜的研究
机译:使用空心阴极结构靶改变磁控溅射源的电特性
机译:比较研究三种纳米碳膜沉积方法的初步结果:热电子真空电弧,磁控溅射和阴极电弧
机译:大面积400毫米级涂层通过过滤的阴极真空电弧系统的大规模生产规模
机译:研究磁控溅射生产的氧化锌基薄膜的结构,电,光和磁性能。
机译:N2分压对液靶反应磁控溅射外延沉积GaN纳米棒生长结构和光学性能的影响
机译:与行业相关的磁控溅射和阴极电弧超高真空沉积系统,用于利用高能同步加速器辐射对薄膜生长进行原位X射线衍射研究
机译:大面积冷阴极真空三极管的击穿过程
机译:在真空室中操作用于磁控溅射的大型阴极,其中阴极包括靶,包括通过装置产生磁场,并将靶分为两个部分靶
机译:旋转圆筒型磁控溅射阴极靶组件,溅射阴极组件,溅射系统及使用该溅射膜的薄膜生产工艺
机译:陶瓷可旋转磁控溅射阴极靶及其生产方法
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