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机译:单圆柱靶脉冲直流磁控溅射沉积功率对掺铝ZnO薄膜结构和电性能的影响
Al-doped ZnO; Pulsed dc magnetron sputtering; Cylindrical target; Deposition rate; Structural and electrical properties;
机译:单圆柱靶脉冲直流磁控溅射沉积功率对掺铝ZnO薄膜结构和电性能的影响
机译:溅射功率对带有旋转圆柱靶的脉冲直流磁控溅射沉积的ZnO:Ga透明导电氧化物膜性能的影响
机译:勘误表:“磁控溅射靶的腐蚀区对透明导电掺铝ZnO聚结晶膜的结构和电性能的空间分布的影响” p。应用物理124,065304(2018)]
机译:沉积参数对磁控共溅射Al掺杂ZNO薄膜元素浓度,电学和光学性能的影响
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:AlN中间层对大功率脉冲磁控溅射SiC薄膜结构和化学性能的影响
机译:错误:“磁控溅射靶侵蚀区域对透明导电ZnO多晶膜结构和电学空间分布的影响”J。苹果。物理。 124,065304(2018)