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Dong-ping Li; 李东平; Qing Li; 李青;
安徽省真空学会;
铟锡氧化物薄膜; 制备工艺; 光电特性; 参数优化;
机译:离子束溅射沉积的ITO薄膜的In / ITO晶须和光电特性
机译:硫化钨薄膜的制备及光电特性研究
机译:磁控溅射ITO靶制备ITO薄膜(等离子体条件和衬底温度对ITO薄膜性能的影响)
机译:ZITO薄膜的结构和光电特性
机译:薄膜宽带隙半导体:结构,光电特性的制备,掺杂和表征。
机译:使用聚合物前体方法制备的SmFeO3薄膜提高阻抗式C2H2传感器的传感性能
机译:通过脉冲激光蒸发和Tl测量制备高纯度的高纯度薄膜,制备高纯度的薄膜,制备高纯度的薄膜,制备高纯度的薄膜,制备高纯度的薄膜,薄膜,薄膜,薄膜,薄膜,薄膜,薄膜,薄膜等。 u3csup \ u3e2 \ u3c / sup \ u3eO \ u3csup \ u3e3 \ u3c / sup \ u3e蒸汽处理
机译:离子束溅射制备低掺杂sn掺杂In2O3(ITO)薄膜。
机译:ito和iton薄膜的沉积工艺,ito和iton薄膜及其用途
机译:光电特性电致变色膜的研究装置
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