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流态化多晶硅CVD过程的数值模拟

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本文基于CFD分析手段,针对流化床反应器内复杂的多晶硅CVD气-固反应过程,对流化床内的反应过程和反应时间、进口硅烷浓度、进口气速等情况进行了分析,确定了部分操作条件(进料气速5.5umf、硅烷摩尔进口浓度15％),对高纯度多晶硅实际生产工艺的设计提供理论支持.

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来源
《全国第十二届非均相分离学术交流会暨2015厦门台湾两地过滤与分离技术交流大会》|2015年|197-204|共8页
会议地点厦门
作者
宗芳; 李建隆;
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作者单位

中国化工学会化学工程专业委员会;

中国石油和化学工业联合会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN304.12;
关键词
流态化多晶硅; 流化床反应器; 化学气相沉积; 数值模拟;

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