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陈宝钦;
中国电子学会;
硅化钛自对准;
机译:使用标准相位掩模技术以两倍于布拉格波长的波长制造u0001相移纤维布拉格光栅
机译:用于FPD的大型光掩模的最新技术趋势多色调掩模和新的曝光技术有助于降低大型TFT-LCD的成本
机译:互补双曝光技术(CODE):一种使用双曝光二进制掩模方法打印80纳米和65纳米栅极电平的方法
机译:无需交替移相掩模的新型双曝光技术
机译:单曝光和双曝光光学微光刻的掩模设计:逆成像方法
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:平移对称交替移相掩模光栅标记在光刻投影像差线性测量模型中的应用
机译:使用网格支持模板掩模的掩模离子束抗蚀剂曝光
机译:制造移相掩模空白的方法和制造移相掩模,相移掩模空白和移相掩模的方法
机译:移相掩模,用于移相掩模的空白以及制造移相掩模的方法
机译:移相光掩模空白,移相光掩模空白和移相光掩模的生产
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