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楢冈清威; 何恩生;
移相掩模; 光刻模拟; 光刻;
机译:平移对称交替移相掩模光栅标记在光刻投影像差线性测量模型中的应用
机译:用于观察极紫外光刻掩模以预测相缺陷可印刷性的高倍成像光学元件特性的模拟分析
机译:带有遮光边框的薄吸收剂极紫外光刻掩模,适用于全视场扫描仪:掩模工艺会改变平整度和图像放置
机译:通过使用PI / 2相移掩模,通过使用PI / 2相移掩模的光敏纤维和248纳米准分子写入的248-NM准备写入
机译:用于自然缺陷分析的极紫外光刻掩模版的局部掩模图案
机译:适用于单次和串行微加工的通用衍射无掩模光刻
机译:使用模板掩模的带掩模离子束光刻的线宽控制
机译:移相掩模相移角,光刻工艺和移相掩模的检测方法
机译:制造移相掩模空白的方法和制造移相掩模,相移掩模空白和移相掩模的方法
机译:移相掩模,用于移相掩模的空白以及制造移相掩模的方法
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