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DONG Yiping; 董宜萍; XIE Haizheng; 谢海征; XIAO Hongxi; 肖红玺; XU Bin; 徐斌; LIU Huanping; 刘还平;
中国光学学会电子行业协会液晶分会;
中国物理学会液晶分会;
中国电子学会;
薄膜晶体管液晶显示器; 干法刻蚀设备; 光刻胶; 灰化能力;
机译:超低k相容性二氧化碳原位光刻胶灰化过程的机理研究。一,工艺性能及其对ULK材料改性的影响
机译:超低k相容性二氧化碳原位光刻胶灰化过程的机理研究。二。与先前的碳氟化合物等离子体超蚀刻工艺的相互作用
机译:超低k相容性二氧化碳原位光刻胶灰化过程的机理研究。二。与先前的碳氟化合物等离子体超低k蚀刻工艺的相互作用
机译:氧等离子体灰化对压电丝微结构的选择性各向异性干法刻蚀
机译:灰化过程中烟灰化学成分和添加剂对熔体温度影响的研究。
机译:阴极射线极谱法干法灰化测定血铅:与湿式灰化技术比较
机译:通过大气压发光等离子体光刻胶灰化。
机译:使用氧化化学法评估后灰化光刻胶清洁
机译:在滤色器制造过程中使用的彩色光刻胶去除方法,包括在基板上依次执行等离子体灰化,湿法蚀刻和等离子体灰化工艺,以去除基板上的彩色光刻胶残留物
机译:用于研究齿轮承载能力的设备和用于研究齿轮承载能力的方法
机译:具有灰化步骤的半导体器件的制造工艺,该灰化步骤用于由NxHy气体产生的等离子体中的光刻胶掩模
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